私たちについて

研磨研磨設備と材料応用の総合方案サプライヤー

西可栄誉

研究開発の成果

会社は高素質企業の人材育成に対して、効率的な研究開発チームを形成し、堅固な技術プラットフォームを構築し、それによって誕生した研究開発成果は引き続き増加している。

革新は発展の第一の原動力である。

ソフトウェア開発からハードウェア設計に至るまで、シコーは技術の自主開発に終始し、毎年売上高の10%を研究開発に投入している。

現在、西可は5 Gの車載機器、スマートウェア、スマートホーム、スマートフォン、半導体研磨など、5 Gに関連する機器生産技術の研究開発に力を入れることができる。

知的財産権の状況

シーケンス番号 プロジェクト 総出願 取得済み レビュー中
1 発明特許 37 3 34
2 外観特許 8 8 0
3 実用新案登録 79 76 3
4 ソフトウェア著作権 5 5 0
合計#ゴウケイ# 129 92 37
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